気相NMRにおける分子水素同位体と希ガスの弱い分子間相互作用の解析

要約

気相NMR分光法を用いて、H2・D2などの水素同位体分子とHe・Ne・Arとの弱い分子間相互作用がNMR遮蔽定数に与える影響を実験・ab initio計算の両面から検討した。He-CO2二量体についても同様の解析を実施した。バルク磁化率補正の取り扱いが実験値の圧力依存性に大きく影響することが示され、希ガス溶媒中でのHe-希ガス相互作用解析に基づく補正とD2-希ガス系の重水素遮蔽定数を考慮した場合に最良の一致が得られた。

メカニズム

弱い分子間力（van der Waals相互作用）がNMR遮蔽定数を変化させ、その圧力依存性はバルク磁化率補正に支配される。